Jonas Heitland

Jonas Heitland
Student / Studiengang Doktorat D-CHAB
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Zusätzliche Informationen
Jonas Heitland schloss 2021 sein Studium der Chemie mit einem Bachelor von der Georg-August-Universität Göttingen und einem Master vom University College London ab. Im gleichen Jahr wechselte er an die ETH Zürich, wo er derzeit als wissenschaftlicher Mitarbeiter und Doktorand in der Forschungsgruppe von Prof. Dr. Ruth Signorell arbeit. Seine Forschungsinteressen umfassen die spektroskopische Untersuchung von Aerosolen und Nanoplasmen mithifle von ultraschnellen Laserpulsen, um deren elektronische Struktur, lichtinduzierte Dynamik und Oberflächeneffekte zu studieren. Sein aktuelles Projekt befasst sich mit der Photoelektronen-Spektroskopie von organischen und anorganischen Stoffen in Wassertröpfchen, um die elektronische Valenzstruktur wässriger Lösungen von biologischer und atmosphärischer Relevanz zu untersuchen.
Veröffentlichungen (neu nach alt)
- J. Heitland, J. C. Lee, L. Ban, G. L. Abma, W. G. Fortune, H. H. Fielding, B. L. Yoder and R. Signorell, "Valence electronic structure of interfacial phenol in water droplets", J. Phys. Chem. A 2024, 128, 7396–7406, DOI: 10.1021/acs.jpca.4c04269.
- N. A. Lau, D. Ghosh, S. Bourne-Worster, R. Kumar, W. A. Whitaker, J. Heitland, J. A. Davies, G. Karras, I. P. Clark, G. M. Greetham, G. A. Worth, A. J. Orr-Ewing, H. H. Fielding, "Unraveling the Ultrafast Photochemical Dynamics of Nitrobenzene in Aqueous Solution", J. Am. Chem. Soc. 2024, 146, 10407–10417, DOI: 10.1021/jacs.3c13826.
- L. Ban, H. Tang, J. Heitland, C. W. West, B. L. Yoder, I. Thanopulos and R. Signorell, "Ion imaging of spatially inhomogeneous nanoplasmas in NaCl particles", Nanoscale 2024, 16, 5695–5705, DOI: 10.1039/D3NR06368B.
- D. Becker, J. Heitland, P. T. M. Carlsson, J. Elm, T. Olenius, S. Tödter, A. Kharrazizadeh, T. Zeuch, "Real-time monitoring of aerosol particle formation from sulfuric acid vapor at elevated concentrations and temperatures", Phys. Chem. Chem. Phys. 2022, 24, 5001–5013, DOI: 10.1039/D1CP04580F.